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激光烧蚀制备纳米Si晶粒尺寸均匀性与靶衬间距的关系Relation between target-substrate separation and size-uniformity of Si nanoparticles prepared by laser ablation |
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<<华北电力大学学报>>2006年 第33卷 第02期
作者: 金成, 王文军, 冯秀娟, 王英龙,
期刊-核心期刊 ISSN : 1007-2691(2006)02-0109-03
为了对纳米Si薄膜中晶粒尺寸的分布进行定量研究,首次提出"晶粒尺寸均匀度"的概念,并对Lowndes等人采用脉冲激光烧蚀方法制备纳米Si薄膜的实验结果进行了定量分析.结果表明,随着靶衬间距的增大,晶粒尺寸均匀度先减小后增大,也就是说,存在靶衬间距的最佳值,使所制备的纳米Si晶粒的尺寸均匀性最好.Monte Carlo模拟结果对这一结论进行了解释.
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